エレクトロニクス材料

光酸発生剤(WPAGシリーズ)

ジアゾジスルホン系トリフェニルスルホニウム系

キレイな半導体をつくる

WPAGシリーズとしてラインアップしております当社の光酸発生剤は、主要なレジストメーカーのLSI製造用エキシマレジストにおいて、高い品質と性能が実証されています。下記にご紹介する製品の他にも、様々なジアゾジスルホン系、トリフェニルスルホニウム系の光酸発生剤をラインナップしております。また、光カチオン開始剤として用いられるジフェニルヨードニウム化合物(WPIシリーズ)も販売しており、高品質なものから汎用グレードまでの幅広い製品を供給することが可能です。またお客様が希望する酸発生剤の受託合成もうけたまわります。

WPAG-145

(Bis(cyclohexylsulfonyl)diazomethane))

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 138529-81-4
分子量 334.45

物性

外観 形状:結晶又は結晶性粉末
色:白色~淡黄色
融点 130.1~130.6℃
溶解性 水 :難溶
その他 :エタノール、n-ヘキサンに難溶 アセトン、酢酸エチルに易溶
吸収特性 216nm(ε=10300)
248nm(ε=710)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 3-(4)-461
変異原性 微生物を用いる変異原性試験 陰性
経口毒性 -

WPAG-149

(2-Methyl-2-[(4-methylphenyl)sulfonyl]-1-[4-(methylthio)phenyl]-1- propanone)

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CAS RN® 105604-37-3
分子量 348.48

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 97~98℃
溶解性 水 :不溶
その他 :酢酸エチルに易溶 メタノールに可溶
吸収特性 228nm(ε=19810)
248nm(ε=5580)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-170

(Bis(tert-butylsulfonyl)diazomethane)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 138529-84-7
分子量 282.38

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:淡黄色~黄色
融点(分解点) 121℃
溶解性 水 :難溶
その他 :メタノールに難溶 クロロホルム、アセトン、アセトニトリルに易溶
吸収特性 214nm(ε=10145)
248nm(ε=858)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 2-(11)-79
変異原性 微生物を用いる変異原性試験 陰性
経口毒性 -

WPAG-199

(Bis(4-methylphenylsulfonyl)diazomehtane)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 14159-45-6
分子量 350.41

物性

外観 形状:結晶又は結晶性粉末
色:淡黄色~黄色
融点 121.4~122.4℃
溶解性 水 :難溶
その他 :エタノール又はn-ヘキサンに難溶 アセトン、酢酸エチルにやや易溶
吸収特性 -

関連法規・安全性

消防法 危険物第五類ジアゾ化合物(第ニ種自己反応性物質)
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-336

(Diphenyl-4-methylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 81416-37-7
分子量 426.47

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 102℃
溶解性 水 :不溶
その他 :アセトン、PGMEAに可溶
吸収特性 236nm(ε=19117)
248nm(ε=17424)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-367

(Diphenyl-2,4,6-trimethylphenylsulfonium p-toluenesulfonate)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 347841-51-4
分子量 476.66

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:白色
融点 112~113℃
溶解性 水 :可溶
その他 :メタノール、塩化メチレン、アセトンに可溶
吸収特性 193nm(ε=118131)
248nm(ε=14722)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-370

(Diphenyl(4-methoxyphenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 116808-67-4
分子量 442.47

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:白色~淡黄色
融点 102~103℃
溶解性 水 :不溶
その他 :ヘキサン、トルエンに不溶 酢酸エチル、IPAに可溶、
     アセトン、メタノール、塩化メチレンに易溶
吸収特性 193nm(ε=52610)
248nm(ε=9000)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-469

(20% PGMEA Solution)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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化学名 [4-Methylphenyldiphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonate]
CAS RN® 284474-28-8
分子量 576.49
化学名 [Propylene glycol monomethyl ether acetate(PGMEA)]
CAS RN® 108-65-6
分子量 132.16

物性

外観 形状:澄明液体
色:無色
融点 102~103℃
溶解性 水 :不溶
その他 :メタノール、アセトン、THF、ジメチルスルホキシドに可溶
吸収特性 237nm(ε=17898)

関連法規・安全性

消防法 危険物第四類第ニ石油類(非水溶性液体)
毒物及び劇物取締法 -
化審法 [4-メチルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホナート]: 告示されていない
[プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA): 2-3144
安衛法 [4-メチルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホナート]: 告示されていない
[プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA): 公表化学物質
変異原性 -
経口毒性(LD50 ラット 8532mg/kg

WPAG-638

(Tris(4-methylphenyl)sulfonium nonafluorobutanesulfonate)

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

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CAS RN® 722538-68-3
分子量 604.56
融点 94-95℃

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 94.8℃
溶解性 水 :不溶
その他 :アセトニトリル、メタノール、酢酸エチルに易溶
n-ヘキサン、イソプロピルエーテルに不溶
吸収特性 242nm(ε=25290)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -